确定曝光时间的方法是使用云斯顿17级光密度表或斯托夫21级密度表，而且需凭经验进行观察。
所以尽管严格控制了曝光时间，沙田标牌曝光显影，但实际上干膜在每次曝光时所获得的曝光总能量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。
为使每次曝光能量相同，必须使用光能量积分仪来计量曝光。
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在显影检验工艺，工程师有个判断工艺的性能机会。
显影检验步骤的第二个重要性与在检验时作的拒收有关。
工艺工程师的目标是保持尽可能低的重新工艺处理率，处理率应小于10%，而5%是一个受欢迎的水平。
一个原因是经过重新工艺处理的晶圆在终工艺完成时有较低的分选良品率。
保持低重新工艺处理率的第二个原因与在进行重新工艺处理晶圆时要求另外的计算和区分有关。
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在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。
曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，标牌曝光显影报价，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉， 标牌曝光显影标牌曝光显影标牌曝光显影
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我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使利成感光在树脂工艺品中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。
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