蚀刻中的曝光显影是什么意思？曝光显影：指在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。通常是指使感光纸或摄影胶片感光，摄影感光材料的感光。经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。平面曝光显影

蚀刻加工中曝光显影需要注意哪些问题 曝光显影技术优势：预处理，平面曝光显影企业，蚀刻材料要处理干净，丝印油墨时要保证油墨厚度适中，一般在0.12-0.14mm，平面曝光显影抛光，当然看每个工厂的实际情况与工艺。

1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；

2、图形转印技术单层、多层套印精度高；

3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用图形转印技术，良率较高；

5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；

6、较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率。

曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要。平面曝光显影


曝光显影：各种不同材质的手机壳加工工艺，

简单说下各种材质的不同优缺点：

　　1、硅胶套：比较软，拆卸极其方便，莞城平面曝光显影，这种材质成本较低，容易变形主要是颜色容易发黄，用不多久就会有很明显，

2、TPU热塑性聚氨酯弹性体橡胶，这种材质耐磨、耐油，平面曝光显影厂，硬度适中，为大多数手机壳品牌商的选择，通常采用打印工艺，可以批量订制，不需要多少钱就可以开一个小作坊，然后1个2个都比较灵活，平面曝光显影


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